除重金屬濾芯的用途有哪些
概述:去除氧化劑(余氯):KDF能去除水中的氧化劑,例如余氯。該作用是通過電化學氧化還原反應完成的。氧化還原反應的發生是因為KDF是由兩種不同的金屬組成的,與水接觸時,合金中電位正的銅成為陰極,而電位負的
去除氧化劑(余氯):KDF能去除水中的氧化劑,例如余氯。該作用是通過電化學氧化還原反應完成的。氧化還原反應的發生是因為KDF是由兩種不同的金屬組成的,與水接觸時,合金中電位正的銅成為陰極,而電位負的鋅是陽極。在陰極發生還原反應,陽極發生氧化反應。鋅陽極在反應中失去了電子,鋅離子成為犧牲者進入溶液,銅陰極上發生游離氯的還原反應,而不會發生金屬銅的溶解,水和余氯成為最后的電子接受者,同時生成氫離子、氫氧根離子和氯離子,總反應式如下:
Zn+HOCl+H2O+2e- Zn2+ +Cl-+H++2OH-
水中其他的氧化劑,如臭氧、溴、碘等與KDF55接觸后也能進行氧化還原反應。
3、減少礦物結垢:由于KDF處理介質中鋅離子的溶出,水中的鋅離子含量有所增加,水中鋅離子的存在能改變垢的晶體生長機理,使水中的碳酸鈣垢以文石的結晶形態產生沉淀,在容器的器壁上形成軟垢,而不是結晶為方解石型的硬垢。曾有人研究過水中雜質存在對方解石結晶生長的影響,研究發現,即使鋅離子的濃度很低時,也能阻止方解石結晶的形成。
4、抑制微生物的繁殖:美國環境保護署將KDF55處理介質作為一種微生物抑制劑,說明該處理介質能起到抑制微生物繁殖的作用。KDF55處理介質不是通過一種機理、而是幾種機理控制微生物的生長繁殖,通過每一種的單獨作用或協同作用來達到抑制微生物的作用。主要機理包括:氧化還原電位的變化,氫氧根離子和過氧化氫的形成,介質中鋅的溶出等。在一般情況下,KDF55處理介質作為反滲透膜的預處理手段時,能夠抑制細菌、藻類等微生物的繁殖,從而防止了微生物對膜的破壞。
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Zn+HOCl+H2O+2e- Zn2+ +Cl-+H++2OH-
水中其他的氧化劑,如臭氧、溴、碘等與KDF55接觸后也能進行氧化還原反應。
3、減少礦物結垢:由于KDF處理介質中鋅離子的溶出,水中的鋅離子含量有所增加,水中鋅離子的存在能改變垢的晶體生長機理,使水中的碳酸鈣垢以文石的結晶形態產生沉淀,在容器的器壁上形成軟垢,而不是結晶為方解石型的硬垢。曾有人研究過水中雜質存在對方解石結晶生長的影響,研究發現,即使鋅離子的濃度很低時,也能阻止方解石結晶的形成。
4、抑制微生物的繁殖:美國環境保護署將KDF55處理介質作為一種微生物抑制劑,說明該處理介質能起到抑制微生物繁殖的作用。KDF55處理介質不是通過一種機理、而是幾種機理控制微生物的生長繁殖,通過每一種的單獨作用或協同作用來達到抑制微生物的作用。主要機理包括:氧化還原電位的變化,氫氧根離子和過氧化氫的形成,介質中鋅的溶出等。在一般情況下,KDF55處理介質作為反滲透膜的預處理手段時,能夠抑制細菌、藻類等微生物的繁殖,從而防止了微生物對膜的破壞。
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