四氟化碳 cf4 蝕刻氣體 電子器件清洗 泄露檢驗(yàn)劑 

四氟化碳

UN: 1956  CAS NO:75-73-0，30kg/瓶 銅閥門QF-2，閥門型號：CGA660，出口螺紋：G5/8.

CF4是不燃燒的無色無味的壓縮氣體，飽和蒸汽壓力2000psig，是目前微電子工業(yè)中用量最多的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅，二氧化硅，氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻。在常溫常壓下為無色無臭有輕微酸味的氣體。空氣中不易燃燒，是比較穩(wěn)定的無毒物質(zhì)。但是在高溫時，或與可燃?xì)怏w一同燃燒是，分解出有毒的氟化物。在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)，氣相絕緣，低溫制冷，泄漏檢驗(yàn)劑，控制宇宙火箭姿態(tài)，印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。也可用于金屬冶煉，銅，不銹鋼，碳鋼，鋁蒙及爾，還用于塑料行業(yè)。