甲基磺酸 75-75-2 高效表面處理原料源頭工廠 

甲基磺酸 75-75-2 簡稱MSA  CH4O3S   
中文同義詞 甲基磺酸;甲磺酸；甲烷磺酸；烷基磺酸
英文名稱Methanesulfonic acid
分子量96.11
熔點(diǎn)17-19°C(lit.)沸點(diǎn)167°C/10mmHg(lit.)
密度1.475-1.485g/mLat20°C1.481g/mLat25°C(lit.)
蒸氣密度3.3(vsair)蒸氣壓1mmHg(20°C)
折射率n20/D1.429(lit.)閃點(diǎn)>230°F
儲存條件2-8°C
穩(wěn)定性：穩(wěn)定的。濕氣敏感。與胺、堿、水、普通金屬不相容。用水稀釋時會釋放大量熱量（如果稀釋，請小心向水中加酸）。

物化性質(zhì)：無色透明液體，長時間存儲可能顏色變深 。

70%濃度甲基磺酸（水溶液）主要應(yīng)用于電化學(xué)、半導(dǎo)體、集成電路芯片及精密儀器和設(shè)備的金屬表面處理等領(lǐng)域，在電鍍錫和電鍍錫鉛合金方面是取代硫酸和氟硼酸、酚磺酸的理想材料，解決了原工藝環(huán)境污染嚴(yán)重的問題。
產(chǎn)品特點(diǎn)如下：1.甲基磺酸型的光亮純錫電鍍，鍍層結(jié)晶細(xì)致，均勻，呈光亮銀白色，具有良好的可焊性，適用于電子行業(yè)。
2.該電鍍液具有較高的電鍍速度，較寬的電流密度范圍，較快的沉積速度，良好的深鍍能力。
3.經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)老化試驗(yàn)或長期存放后，仍能保持良好的焊接性能。
4.不含氟硼酸，廢水處理容易，腐蝕性低，利于環(huán)保。

在集成電路電鍍中是理想的整平劑和光亮劑，并廣泛應(yīng)用于礦山恢復(fù)無害化治理領(lǐng)域。

99%濃度甲基磺酸主要應(yīng)用在醫(yī)用和化工原料領(lǐng)域，在石油精煉、紡織品處理等行業(yè)也有廣泛應(yīng)用。
（電鍍、電子工業(yè)、塑料工業(yè)、橡膠工業(yè)、醫(yī)藥領(lǐng)域穩(wěn)定性、染料工業(yè)）

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